特許
J-GLOBAL ID:200903055348204267

メチル置換ポリアルキリデンポリフェノール類の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 江崎 光史 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-218719
公開番号(公開出願番号):特開平9-124531
出願日: 1996年08月20日
公開日(公表日): 1997年05月13日
要約:
【要約】【課題】 少量の低分子量縮合生成物しか含有せず、狭い分子量分布、高い軟化温度および改善された溶解性および相容性を有する生成物をもたらす、メチル置換ポリアルキリデンポリフェノール類の製造方法の提供。【解決手段】 この方法では、第一段階で、オキソ化合物に関して二官能性のメチル置換フェノールおよび/または三官能性のメチル置換フェノールとを、該フェノール成分とオキソ化合物との使用モル比を1:0.2〜1:0.7として酸性触媒の存在下にオキソ化合物と反応させて低分子量ポリアルキリデンポリフェノールを得、その際にフェノール成分とオキソ化合物との使用モル比が1:0.2〜1:0.7であり、未反応のフェノール成分を次に留去しそして第二段階で、蒸留後残渣を成す低分子量ポリアルキリデンポリフェノールを酸性または塩基性の触媒の存在下にさらにオキソ化合物と反応させる。
請求項(抜粋):
第一段階で、オキソ化合物に関して二官能性のメチル置換フェノールおよび/または三官能性のメチル置換フェノールとを、該フェノール成分とオキソ化合物との使用モル比を1:0.2〜1:0.7として酸性触媒の存在下にオキソ化合物と反応させて低分子量ポリアルキリデンポリフェノールを得、その際にフェノール成分とオキソ化合物との使用モル比が1:0.2〜1:0.7であり、未反応のフェノール成分を次に留去しそして第二段階で、蒸留後残渣を成す低分子量ポリアルキリデンポリフェノールを酸性または塩基性の触媒の存在下にさらにオキソ化合物と反応させることを特徴とする、メチル置換ポリアルキリデンポリフェノールの製造方法。
IPC (6件):
C07C 39/21 ,  C07C 37/11 ,  C08G 8/12 NBU ,  C08K 5/17 KDG ,  C08L 61/06 LNA ,  C09J161/06 JEQ
FI (6件):
C07C 39/21 ,  C07C 37/11 ,  C08G 8/12 NBU ,  C08K 5/17 KDG ,  C08L 61/06 LNA ,  C09J161/06 JEQ

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