特許
J-GLOBAL ID：200903055349778577
レジスト除去装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-145793
公開番号（公開出願番号）：特開平5-003151
出願日： 1991年06月18日
公開日（公表日）： 1993年01月08日
要約：
【要約】【目的】除去室におけるレジストの除去能力が低下するのを防止する。【構成】除去室2に硫酸槽10を設け、洗浄室3に温水洗浄槽11を設け、除去室2と洗浄室3との間に開閉シャッタ1を設け、半導体ウェハの搬送ロボット4を設け、開閉シャッタ1の近傍の上部に下部に複数の穴を有するエア導入管5を設け、エア導入管5にエア供給装置12を接続する。
請求項（抜粋）：
硫酸槽が設けられた除去室と、温水洗浄槽が設けられた洗浄室と、上記除去室と上記洗浄室との間に設けられた開閉シャッタと、被加工物の搬送ロボットとを有するレジスト除去装置において、上記開閉シャッタの近傍の上部に下部に複数の穴を有するエア導入管を設け、上記エア導入管にエア供給装置を接続したことを特徴とするレジスト除去装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/42
, H01L 21/304 341
