反射防止性有機基材の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-117191
公開番号（公開出願番号）：特開2004-325579
出願日： 2003年04月22日
公開日（公表日）： 2004年11月18日
要約：

【課題】硬化物層と基材又は高屈折率層の密着性が改良され、耐擦傷性能および反射防止性能に優れた反射防止性有機基材を提供するにあたり、安定した製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】有機基材の表面に、基材側から順に、活性エネルギ線硬化性化合物を含有する被覆組成物の硬化物層(A)、屈折率が1.55以上の微粒子とポリシラザンを含有する被覆組成物の硬化物層(B)、ポリシラザンを含有する被覆組成物の硬化物層(C)であって、硬化物層(B)のポリシラザンが有機基含有ポリシラザンとペルヒドロポリシラザンとの混合物である硬化物層を形成する製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

有機基材の表面に、基材側から順に、活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を1個以上有する化合物を含有する被覆組成物(a)の硬化物層(A)、屈折率が1.55以上の微粒子とポリシラザンを含有する被覆組成物(b)の硬化物層(B)、ポリシラザンを含有する被覆組成物(c)の硬化物層(C)を形成せしめる反射防止性有機基材の製造方法であって、被覆組成物(b)におけるポリシラザンは下記式1で示される構造を有するポリシラザンおよび/または下記式2で示される構造を有するポリシラザンと、ペルヒドロポリシラザンとの含有量の比率が質量比で3/7〜9/1であることを特徴とする反射防止性有機基材の製造方法。 (R1)3Si-(NR2-SiH2)r-NR2-Si(R1)3 ・・・式1 -(SiR3R4-NR5)m-(SiH2-NR5)n- ・・・式2 式1において、R1はアルキル基またはアリール基、R2は水素原子、アルキル基またはアリール基、rは1以上の整数を表す。式2において、R3はアルキル基またはアリール基、R4は水素原子、アルキル基またはアリール基、R5は水素原子、アルキル基またはアリール基、mおよびnはそれぞれ1以上の整数を表す。

IPC (2件)：

G02B1/11 , B32B9/00

FI (2件)：

G02B1/10 A , B32B9/00 Z

Fターム (26件)：

2K009AA02 , 2K009AA10 , 2K009CC03 , 2K009CC09 , 2K009CC42 , 2K009DD17 , 4F100AA21B , 4F100AA33B , 4F100AK45 , 4F100AK79A , 4F100AK79B , 4F100AK79C , 4F100AT00D , 4F100BA04 , 4F100BA07 , 4F100DE01B , 4F100EJ522 , 4F100EJ582 , 4F100GB41 , 4F100JB12A , 4F100JB12B , 4F100JB12C , 4F100JN06 , 4F100JN18B , 4F100YY00B , 4F100YY00C

前のページに戻る