ネガ型化学増幅レジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：青木朗 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-000740
公開番号（公開出願番号）：特開平5-181278
出願日： 1992年01月07日
公開日（公表日）： 1993年07月23日
要約：

【要約】【目的】電離放射線の照射によるパターン形成において、解像性に優れ、かつパターン形状の良好なパターン形成に有用なネガ型化学増幅レジスト組成物を開発する。【構成】ネガ型化学増幅レジスト組成物を水素添加フェノール樹脂、ヘキサメトキシメチルメラミン含有率を高めたメラミン樹脂、電離放射線の照射により酸を発生する酸発生剤及び溶剤を主成分として構成する。

請求項（抜粋）：

水素添加フェノール樹脂、ヘキサメトキシメチルメラミン含有率を高めたメラミン樹脂、電離放射線の照射により酸を発生する酸発生剤及び溶剤を主成分として含有してなるレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/038 505 , G03F 7/004 503 , G03F 7/029 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平3-107162
特開平3-075652
特開平3-248969

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