特許
J-GLOBAL ID：200903055366466660

プラズマCVD法による蒸着膜

発明者：
稲垣 肇

稲垣 肇 について

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並木 恒久

並木 恒久 について

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家木 敏秀

家木 敏秀 について

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小林 亮

小林 亮 について


出願人/特許権者：
東洋製罐株式会社

東洋製罐株式会社 について


代理人 (2件)： 小野 尚純 ,  奥貫 佐知子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-097595
公開番号（公開出願番号）：特開2005-089859
出願日： 2004年03月30日
公開日（公表日）： 2005年04月07日
要約：
【課題】 剥離等の問題がなく、耐久性に優れ、且つ水分に対するバリヤー効果にも優れたプラズマCVD法による蒸着膜を提供する。【解決手段】 有機金属化合物と酸化性ガスとを反応ガスとして用いてのプラズマCVD法により基体表面に形成された蒸着膜において、該蒸着膜は、基体側に位置するバリヤー層領域と、該バリヤー層領域表面に位置する外表面保護層領域とを有しており、前記有機金属化合物に由来する金属元素(M)、酸素(O)及び炭素(C)の3元素基準で、前記バリヤー層領域は、(M+O)濃度が外表面保護層領域よりも高く、且つ該バリヤー層領域と外表面保護層領域の界面部分で(M+O)濃度が実質上連続的に変化しているとともに、前記外表面保護層領域は、(C)濃度が15元素%以上であることを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
有機金属化合物と酸化性ガスとを反応ガスとして用いたプラズマCVD法により基体表面に形成した蒸着膜において、 該蒸着膜は、基体側に位置するバリヤー層領域と、該バリヤー層領域表面に位置する外表面保護層領域とを有しており、 前記有機金属化合物に由来する金属元素(M)、酸素(O)及び炭素(C)の3元素基準で、前記バリヤー層領域は、(M+O)濃度が外表面保護層領域よりも高く、且つ該バリヤー層領域と外表面保護層領域の界面部分で(M+O)濃度が実質上連続的に変化しているとともに、前記外表面保護層領域は、(C)濃度が15元素%以上であることを特徴とする蒸着膜。
IPC (2件)：
C23C16/42 ,  B65D23/02
FI (2件)：
C23C16/42 ,  B65D23/02 Z
Fターム (16件)：
3E062AA09 ,  3E062AC02 ,  3E062JA01 ,  3E062JA07 ,  3E062JB24 ,  3E062JD01 ,  4K030AA06 ,  4K030AA09 ,  4K030BA27 ,  4K030BA29 ,  4K030BA35 ,  4K030CA07 ,  4K030CA15 ,  4K030FA01 ,  4K030LA01 ,  4K030LA24
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (3件)

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