特許

J-GLOBAL ID：200903055370929372

洗浄方法および洗浄装置

発明者： 渡部 弘也 ,  鈴木 邦明 ,  原田 康之
出願人/特許権者： 株式会社フロンテック ,  株式会社プレテック
代理人 (1件)： 野▲崎▼ 照夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-021226
公開番号（公開出願番号）：特開平9-213666
出願日： 1996年02月07日
公開日（公表日）： 1997年08月15日
要約：

【要約】【課題】 液晶表示素子用基板の洗浄工程において、ブラシを用いる洗浄や低周波の超音波振動を付与した純水を用いた洗浄では、有機物や金属汚染物を有効に除去することができない。【解決手段】 オゾン水生成装置18において純水にオゾンを混合してオゾン水を生成する。気液分離装置17で前記オゾン水の過飽和の余剰ガスを分離させ、気液分離後のオゾン水に対し吐出部15にて超音波振動を与え、被洗浄物Wに与える。オゾンの酸化力により有機物や金属汚染物を除去でき、また超音波によりパーティクルを有効の除去できる。気液分離装置17で余剰ガスを分離させているため、オゾン水に超音波振動が与えられるときに気泡が形成されにくく、よって振動板の寿命低下を防止でき、また洗浄室Bから多量のオゾンガスが発生するのを防止できる。

請求項（抜粋）：

純水にオゾンを混合したオゾン水を生成し、このオゾン水を滞留させてオゾン水内から余剰ガスを分離し、余剰ガスを分離した後のオゾン水に振動を与えながら被洗浄物に吐出して、前記被洗浄物を洗浄することを特徴とする洗浄方法。

IPC (4件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/12 ,  C01B 13/10

FI (4件)：

H01L 21/304 341 M ,  H01L 21/304 341 N ,  B08B 3/12 A ,  C01B 13/10 D