特許
J-GLOBAL ID:200903055378796576
[18F]標識化合物及びその製造方法、並びに[18F]標識リポソーム及び[18F]標識リポソーム製剤の製造方法
発明者:
,
,
,
,
出願人/特許権者:
,
,
代理人 (4件):
長谷川 芳樹
, 寺崎 史朗
, 石田 悟
, 那須 公雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-018476
公開番号(公開出願番号):特開2008-184412
出願日: 2007年01月29日
公開日(公表日): 2008年08月14日
要約:
【課題】製造後のリポソーム又はリポソーム製剤を事後的にポジトロン核種標識することを可能とし、リポソーム又はリポソーム製剤のヒトにおける体内動態を、PETを利用して解析できるようにすること。【解決手段】下記の一般式(I)で表される、[18F]標識化合物。(式中、nは7〜25の整数、mは2〜20の整数を表し、Xはメチレン等の二価の基を表す。)【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記の一般式(I)で表される、[18F]標識化合物。
IPC (5件):
C07C 43/12
, A61K 51/00
, A61K 9/127
, C07C 43/225
, C07C 41/22
FI (5件):
C07C43/12
, A61K49/02 A
, A61K9/127
, C07C43/225 C
, C07C41/22
Fターム (26件):
4C076AA19
, 4C076AA95
, 4C076BB13
, 4C076DD15
, 4C076DD63
, 4C076FF16
, 4C076FF31
, 4C076FF68
, 4C085HH03
, 4C085JJ05
, 4C085KA18
, 4C085KA30
, 4C085KB39
, 4C085KB41
, 4C085LL01
, 4C085LL05
, 4C085LL07
, 4C085LL09
, 4C085LL11
, 4C085LL13
, 4H006AA01
, 4H006AB20
, 4H006AC84
, 4H006GP01
, 4H006GP03
, 4H006GP20
引用特許:
引用文献:
前のページに戻る