特許
J-GLOBAL ID:200903055378796576

[18F]標識化合物及びその製造方法、並びに[18F]標識リポソーム及び[18F]標識リポソーム製剤の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗 ,  石田 悟 ,  那須 公雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-018476
公開番号(公開出願番号):特開2008-184412
出願日: 2007年01月29日
公開日(公表日): 2008年08月14日
要約:
【課題】製造後のリポソーム又はリポソーム製剤を事後的にポジトロン核種標識することを可能とし、リポソーム又はリポソーム製剤のヒトにおける体内動態を、PETを利用して解析できるようにすること。【解決手段】下記の一般式(I)で表される、[18F]標識化合物。(式中、nは7〜25の整数、mは2〜20の整数を表し、Xはメチレン等の二価の基を表す。)【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記の一般式(I)で表される、[18F]標識化合物。
IPC (5件):
C07C 43/12 ,  A61K 51/00 ,  A61K 9/127 ,  C07C 43/225 ,  C07C 41/22
FI (5件):
C07C43/12 ,  A61K49/02 A ,  A61K9/127 ,  C07C43/225 C ,  C07C41/22
Fターム (26件):
4C076AA19 ,  4C076AA95 ,  4C076BB13 ,  4C076DD15 ,  4C076DD63 ,  4C076FF16 ,  4C076FF31 ,  4C076FF68 ,  4C085HH03 ,  4C085JJ05 ,  4C085KA18 ,  4C085KA30 ,  4C085KB39 ,  4C085KB41 ,  4C085LL01 ,  4C085LL05 ,  4C085LL07 ,  4C085LL09 ,  4C085LL11 ,  4C085LL13 ,  4H006AA01 ,  4H006AB20 ,  4H006AC84 ,  4H006GP01 ,  4H006GP03 ,  4H006GP20
引用特許:
出願人引用 (3件)
引用文献:
出願人引用 (5件)
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