特許

J-GLOBAL ID：200903055390074330

反応性同時蒸着によって酸化物薄膜を成長させるための高スループット蒸着システム

発明者： ルビー,ウォード ,  ヴォン デッソンネック,カート ,  モークリー,ブライアン
出願人/特許権者： スーパーコンダクター テクノロジーズ,インク.
代理人 (4件)： 柏原 三枝子 ,  高橋 剛一 ,  柴田 雅仁 ,  米村 道子
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-543561
公開番号（公開出願番号）：特表2009-518537
出願日： 2006年11月22日
公開日（公表日）： 2009年05月07日
要約：

基板支持部材に収容される基板上に薄膜を成長させるためのヒータが、複数の発熱体を有する。基板を収容する基板支持部材は、複数の発熱体によって少なくとも部分的に囲まれている。複数の発熱体のうちの少なくとも2が、基板支持部材に外部からのアクセスを与えるように、互いに移動可能である。発熱体のうちの1つ又は別の酸素ポケット部材に酸素ポケットが形成されており、この酸素ポケットを基板上でフィルムを酸化させるために使用する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板支持部材に収容される基板上に薄膜を成長させるためのヒータであって、 複数の発熱体を具え、 前記基板を収容する前記基板支持部材が前記複数の発熱体によって少なくとも部分的に囲まれており、 前記複数の発熱体のうちの少なくとも2が、前記基板支持部材に外部から近づくよう互いに移動可能であることを特徴とするヒータ。

IPC (3件)：

C23C 14/50 ,  C23C 14/24 ,  C23C 14/56

FI (4件)：

C23C14/50 E ,  C23C14/24 K ,  C23C14/50 G ,  C23C14/56 G

Fターム (12件)：

4K029AA04 ,  4K029AA24 ,  4K029BA50 ,  4K029BB02 ,  4K029BC04 ,  4K029CA02 ,  4K029DA03 ,  4K029DA08 ,  4K029DB03 ,  4K029DB14 ,  4K029JA02 ,  4K029KA09

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開平3-242398
  
• 特開昭64-021973
  

審査官引用 (4件)

• 特開平3-242398
  
• 特開平3-242398
  
• 特開昭64-021973
  
• 特開昭64-021973