特許
J-GLOBAL ID：200903055418753395
乾燥処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-221161
公開番号（公開出願番号）：特開平8-061853
出願日： 1994年08月23日
公開日（公表日）： 1996年03月08日
要約：
【要約】【目的】 簡単な構造で処理液中の不純物を除去することができ、装置の小型化及びコストの低減が図れる乾燥処理装置を提供する。【構成】 半導体ウエハWを収容する処理室20内の下方に処理液を貯留する液貯留部11を有し、この液貯留部11の処理液を加熱して発生する蒸気を半導体ウエハWに接触させて半導体ウエハWを乾燥させる乾燥処理装置において、前記液貯留部11に処理液を循環させる液循環管24を配管し、この液循環管24に処理液中に混入する不純物を除去する濾過器26を介設する。これにより、簡単な構造で処理液中の不純物を除去することが可能となる。
請求項（抜粋）：
被処理体を収容する処理室内の下方に処理液を貯留する液貯留部を有し、この液貯留部の処理液を加熱して発生する蒸気を前記被処理体に接触させて被処理体を乾燥させる乾燥処理装置において、前記液貯留部に処理液を循環させる液循環管を配管し、この液循環管に処理液中に混入する不純物を除去する不純物除去手段を介設したことを特徴とする乾燥処理装置。
IPC (2件)：
F26B 19/00
, H01L 21/304 361
