単分散カチオン交換体ゲルの製造方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小田島平吉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-120733
公開番号（公開出願番号）：特開2002-020422
出願日： 2001年04月19日
公開日（公表日）： 2002年01月23日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】向上した耐酸化性を示し、高い浸透安定性と純度を有する単分散カチオン交換体ゲルの製法の提供。【解決手段】a)スチレンを90.5〜97.99重量%とジビニルベンゼンを2〜7重量%とフリーラジカル発生剤を0.01〜2.5重量%含む単量体混合物1から生じさせた単分散ミクロカプセル封じ単量体液滴を水性懸濁液中で変換率が76〜100%になるまで重合させ、b)スチレンを70.5〜95.99重量%とジビニルベンゼンを4〜15重量%と3番目の共重合用単量体を0〜12重量%とフリーラジカル発生剤を0.01〜2.5重量%用いて生じさせた単量体混合物2を添加するが、単量体混合物2の一部である50〜100重量%を単量体混合物2のフリーラジカル発生剤が活性である重合条件下で添加することで、共重合体を生じさせ、c)工程b)の反応生成物をスルホン化する。

請求項（抜粋）：

向上した耐酸化性を示しかつ高い浸透安定性と純度を有する単分散カチオン交換体ゲルを製造する方法であって、a)スチレンを90.5から97.99重量%とジビニルベンゼンを2から7重量%とフリーラジカル発生剤を0.01から2.5重量%含んで成る単量体混合物1から生じさせた単分散ミクロカプセル封じ単量体液滴を水性懸濁液中で変換率が76から100%になるまで重合させ、b)スチレンを70.5から95.99重量%とジビニルベンゼンを4から15重量%と3番目の共重合用単量体を0から12重量%と1種以上のフリーラジカル発生剤を0.01から2.5重量%用いて生じさせた単量体混合物2を添加するが、前記単量体混合物2の一部である50から100重量%を単量体混合物2の少なくとも1種のフリーラジカル発生剤が活性である重合条件下で添加することで、共重合体を生じさせ、そして最後に、c)工程段階b)で生じた反応生成物にスルホン化による官能化を受けさせる、ことを特徴とする方法。

IPC (4件)：

C08F 8/36 , B01J 39/20 , C08F 2/18 , C08F212/08

FI (4件)：

C08F 8/36 , B01J 39/20 F , C08F 2/18 , C08F212/08

Fターム (25件)：

4J011AA05 , 4J011AA07 , 4J011JA07 , 4J011JA08 , 4J011JA13 , 4J011JB22 , 4J011JB26 , 4J100AB02P , 4J100AB16Q , 4J100AJ02R , 4J100AL03R , 4J100AM02R , 4J100BA56H , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA31 , 4J100FA03 , 4J100FA05 , 4J100FA21 , 4J100GC22 , 4J100HA31 , 4J100HA55 , 4J100HA61 , 4J100HC71 , 4J100JA16

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