特許
J-GLOBAL ID：200903055451846820
荷電ビーム描画装置及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-205834
公開番号（公開出願番号）：特開平11-054400
出願日： 1997年07月31日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：
【要約】【課題】本発明は、試料をゴミの付着等の汚染から高精度で守ることのできる荷電ビーム描画装置を提供することを目的としている。【解決手段】本発明は、予備室20内に試料60を置き、予備室内のガスを排気して真空状態にした後に、隔壁バルブ90を開放して予備室と、内部が真空状態に保たれているワーキングチャンバー80とを繋げて、試料を予備室からワーキングチャンバー内の作業台上に試料を搬送し、ワーキングチャンバー内で試料上に荷電ビームでパターンを描画する荷電ビーム描画装置において、試料を収納可能で、一部分に通気口54が開けられた開閉自在のクリーンフィルターポッド50と、試料を収納した状態で予備室内に配置されたクリーンフィルターポッドを予備室内の真空状態を維持したままで開閉するための機構とを具備する。
請求項（抜粋）：
予備室内に試料を置き、前記予備室内のガスを排気して真空状態にした後に、前記予備室と内部が真空状態に保たれているワーキングチャンバーとを隔てている隔壁を開けて、前記試料を前記予備室から前記ワーキングチャンバー内の作業台上に前記試料を搬送し、前記ワーキングチャンバー内で前記試料上に荷電ビームでパターンを描画する荷電ビーム描画装置において、前記試料を収納可能で、一部分に通気口が開けられた開閉自在の容器と、前記試料を収納した状態で前記予備室内に配置された前記容器を、前記予備室内の真空状態を維持したままで開閉するための開閉機構とを具備したことを特徴とする荷電ビーム描画装置。
IPC (5件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
, H01J 37/20
, H01J 37/305
H01L 21/30 541 L
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
, H01J 37/20 B
, H01J 37/305 B
, H01L 21/30 503 G
