特許

J-GLOBAL ID：200903055462116041

真空チャンバ用部品及びその製造方法

発明者： 岩村 栄治 ,  大西 隆 ,  高木 勝寿 ,  吉川 一男
出願人/特許権者： 株式会社神戸製鋼所
代理人 (1件)： 植木 久一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-118310
公開番号（公開出願番号）：特開平8-311692
出願日： 1995年05月17日
公開日（公表日）： 1996年11月26日
要約：

【要約】【目的】 CVD装置,PVD装置,ドライエッチング装置などに用いられる真空チャンバ用部品であって、真空チャンバ内に導入される腐食性のガスやプラズマに対して優れた耐食性を発揮する真空チャンバ用部品及びその製造方法を提供する。【構成】 AlまたはAl合金からなる基材表面に、厚さ20nm以上であって、Ta,Nb,V,Fe,Co及び希土類元素よりなる群から選ばれる1種以上の元素を0.1〜10at%固溶するAl基合金層の陽極酸化皮膜が形成された真空チャンバ用部品であり、上記Al基合金層を物理的蒸着法またはイオン打込み法により形成した後、陽極酸化処理を施すことにより製造することができる。

請求項（抜粋）：

AlまたはAl合金からなる基材表面に、厚さ20nm以上であって、Ta,Nb,V,Fe,Co及び希土類元素よりなる群から選ばれる1種以上の元素を0.1〜10at%固溶するAl基合金層の陽極酸化皮膜が形成されたものであることを特徴とする真空チャンバ用部品。

IPC (8件)：

C25D 11/04 305 ,  C25D 11/04 ,  B01J 3/00 ,  C23C 14/14 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (8件)：

C25D 11/04 305 ,  C25D 11/04 E ,  B01J 3/00 K ,  C23C 14/14 B ,  C23C 16/44 Z ,  H01L 21/203 Z ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B