特許

J-GLOBAL ID：200903055463942328

粒子ビーム装置における表面電荷の影響を減少させるためのスキャニング技術

発明者： モナハン,ケビン エム.
出願人/特許権者： メトロロジックス,インコーポレイティド
代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-513483
公開番号（公開出願番号）：特表平8-506685
出願日： 1993年12月02日
公開日（公表日）： 1996年07月16日
要約：

【要約】走査型電子顕微鏡で使用される改善された走査方法によって、表面電荷の蓄積の影響が減少し、直線性と精密性が増大する。詳しくは、物体(71)をラインに沿って第1方向に横断して走査することによって第1信号を発生させ、物体(71)を同一のラインに沿って反対方向に、逆平行に横断して走査することによって第2信号を発生させ、これら第1及び第2信号を組み合わせることによって、信号の歪みを減少させる。この技術を走査逆転と称する。得られた信号からは、ベースラインのドリフトが実質的に解消する。別の技術によれば、ほぼ円形の項アスペクト比の構造体の画像化は、該構造体の中心をほぼ特定し、該構造体(73)の複数の半径に沿って粒子ビーム(14)を静電的に走査させ、、検査対象の構造体の表面から放射される粒子を検出し、その検出信号を利用してほぼ円形の高アスペクト比の前記構造体の良好な画像を形成することにより、円滑に行われる。この技術を放射状走査と称する。

請求項（抜粋）：

走査型電子顕微鏡において、 第1方向にラインに沿って物体を横断して走査を行って、第1信号を発生させ、 反対方向に逆平行に同一ラインに沿って物体を横断して走査を行って、第2信号を発生させ、 前記第1及び第2信号を組み合わせる各ステップを含む、信号の歪みを減少させる方法。

IPC (2件)：

H01J 37/147 ,  H01J 37/28

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭59-103258
  
• 特開平4-087148
  
• 特開昭64-010559
  
• 特開昭61-077243