特許

J-GLOBAL ID：200903055468572022

ガラス基板の洗浄方法

発明者： 中島 典彦 ,  倉田 昇 ,  安宍 善史
出願人/特許権者： 富士電機株式会社
代理人 (1件)： 谷 義一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-030940
公開番号（公開出願番号）：特開2001-229531
出願日： 2000年02月08日
公開日（公表日）： 2001年08月24日
要約：

【要約】【課題】 化学強化ガラス基板の研磨工程で生じる砥粒や研磨粉を効果的に除去できる洗浄方法を提供すること。【解決手段】 本発明は、溶液が0.01Nから1Nの、カルボキシル基を2つ以上有する有機酸水溶液であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板を洗浄する方法である。前記有機酸は、コハク酸、リンゴ酸、酒石酸、及びクエン酸であることが好ましい。さらに、本発明は、上記洗浄方法で洗浄されたガラス基板を使用した磁気記録媒体、及び該磁気記録媒体を製造する方法に関する。

請求項（抜粋）：

磁気記録媒体用ガラス基板を溶液により洗浄する磁気記録媒体用ガラス基板の洗浄方法であって、前記溶液が0.01Nから1Nの、カルボキシル基を2つ以上有する有機酸の水溶液であることを特徴とする洗浄方法。

IPC (4件)：

G11B 5/84 ,  B08B 3/08 ,  C03C 23/00 ,  G11B 5/73

FI (4件)：

G11B 5/84 Z ,  B08B 3/08 Z ,  C03C 23/00 A ,  G11B 5/73

Fターム (27件)：

3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201BA08 ,  3B201BA11 ,  3B201BB02 ,  3B201BB82 ,  3B201BB83 ,  3B201BB93 ,  3B201BB96 ,  3B201CC01 ,  3B201CC11 ,  3B201CC21 ,  4G059AA09 ,  4G059AB01 ,  4G059AB09 ,  4G059AB11 ,  4G059AC16 ,  4G059AC30 ,  4G059HB03 ,  4G059HB13 ,  4G059HB14 ,  4G059HB23 ,  5D006CB04 ,  5D112AA02 ,  5D112BA03 ,  5D112GA08 ,  5D112GA30

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平3-242352
  
• 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、及び情報記録媒体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-041513   出願人：ホーヤ株式会社