特許
J-GLOBAL ID：200903055469558341
配向膜の配向処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-306464
公開番号（公開出願番号）：特開平6-130391
出願日： 1992年10月19日
公開日（公表日）： 1994年05月13日
要約：
【要約】【目的】 配向処理の際のパーティクルおよび静電気の発生を抑えることができる配向膜の配向処理方法を提供する。【構成】 ガラス基板4上に形成された配向膜8に対して、真空容器12内で、イオン源14から引き出したイオンビーム16を照射する。しかもそれと同時に、同配向膜8に対して、イオンビーム16による正電荷を中和させる電子20をフィラメント18から供給する。
請求項（抜粋）：
真空中で、基板上に形成されていて液晶分子を一定方向に配向させるための配向膜に対してイオンビームを照射すると共に、同配向膜に対してこのイオンビームによる正電荷を中和させる電子を供給することを特徴とする配向膜の配向処理方法。
引用特許：
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