特許
J-GLOBAL ID:200903055469819340

面発光レーザ及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉田 精孝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-173801
公開番号(公開出願番号):特開平9-027650
出願日: 1995年07月10日
公開日(公表日): 1997年01月28日
要約:
【要約】【目的】エッチングプロセスを行うことなく平坦な表面を有した屈折率導波型の面発光レーザ及びその製造方法を提供する。【構成】面発光レーザの作製における、結晶成長の後、素子周辺に加速されたイオンを注入し成長層深く欠陥5を形成し、その後欠陥5を通しH2O、NH3等のO又はNを含む分子を導入し成長層深く酸化あるいは窒化する。
請求項(抜粋):
成長層に形成された欠陥と、該欠陥を通しH2O、NH3等のO又はNを含む分子を導入して成長層に形成された酸化部又は窒化部とを有する、ことを特徴とする面発光レーザ。

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