特許

J-GLOBAL ID：200903055479948369

フォトリソプロセス装置

発明者： 三宅 俊行
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 小池 隆彌
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-010077
公開番号（公開出願番号）：特開平11-214284
出願日： 1998年01月22日
公開日（公表日）： 1999年08月06日
要約：

【要約】【課題】 コストおよびフットプリントを大幅に上げることなく、また装置全体のスループットを低下させることなく、高歩留まりでの生産を可能としたフォトリソプロセス装置を提供する。【解決手段】 ローダ1、洗浄部2、レジスト塗布部3、周辺部レジスト除去部4、露光部5、現像部6およびアンローダ7がインラインで接続されている。ワークが入ったカセットがローダ1に搬入されると、ロボット8aでワークを一枚ずつカセットから抜き取り、搬送ロボットに移載する。以後、各処理部に搬送ロボットによって順にワークが搬送される。バッファ部では、ロボット8bでワークを搬送ロボットから受け取り、異物検査部10にてワークへの付着異物数の計数を行う。ワークへの付着異物数の計数の結果、直前の検査での結果と比較して付着異物数が増加している場合、この検査の直前の処理部にてダストが発生していると判断できる。

請求項（抜粋）：

ローダ部と、アンローダ部と、レジスト塗布手段と、露光手段と、現像手段と、異物検査手段と、前記各手段間でワークを搬送する搬送手段とを少なくとも有するフォトリソプロセス装置において、前記ローダ部または前記アンローダ部に前記異物検査手段を備え、任意の処理段階のワークを前記搬送手段によって前記異物検査手段に搬送することができることを特徴とするフォトリソプロセス装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/66 ,  H01L 21/68

FI (7件)：

H01L 21/30 503 G ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/02 Z ,  H01L 21/66 Z ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 502 J ,  H01L 21/30 561