特許
J-GLOBAL ID：200903055492938771
フォトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-327002
公開番号（公開出願番号）：特開平9-166871
出願日： 1995年12月15日
公開日（公表日）： 1997年06月24日
要約：
【要約】【課題】 解像度、遅延効果耐性、プロファイルなどの諸性能に優れ、ポストエキスポジャーベーク(PEB)依存性が小さく、また感度、残膜率及び塗布性にも優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 ポジ型フォトレジスト組成物のアルカリ可溶性樹脂として、フェノール性水酸基が部分的に保護されたポリビニルフェノール系樹脂を用い、酸発生剤として、N-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルを用い、さらにこの組成物に、アミン化合物及び酸化還元電位が1.7 eV 以下である電子供与体を配合する。【効果】 この組成物は、解像度、プロファイルなどのレジスト諸性能に優れ、また露光からPEBまでの放置時間によって影響を受けにくい。
請求項（抜粋）：
(A)フェノール性水酸基が部分的に保護されたポリビニルフェノール系樹脂を含有するアルカリ可溶性樹脂、(B)酸発生剤としてのN-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステル、(C)アミン化合物、及び(D)酸化還元電位が1.7 eV 以下である電子供与体を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/023 511
, H01L 21/027
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/023 511
, H01L 21/30 502 R
