特許

J-GLOBAL ID：200903055496089396

レーザフラツシユ蒸着装置

発明者： 池滝 慶記
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 篠原 泰司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-187450
公開番号（公開出願番号）：特開平5-033124
出願日： 1991年07月26日
公開日（公表日）： 1993年02月09日
要約：

【要約】【目的】 成膜速度が速く、且つ均一な膜を形成し得るレーザフラッシュ蒸着装置を提供すると共に、レーザフラッシュ蒸着方法に最適で簡易且つ正確に膜厚管理を行い得る膜厚モニタを提供するである。【構成】 真空容器1内にターゲット物質4および蒸着基板10を配置し、ターゲット物質4にレーザ光を照射することにより蒸着基板10上に物質を蒸着するようになっているが、ターゲット4,レーザ入射方向θ及び蒸着基板10が以下の幾何学的条件を満足するようにしたレーザフラッシュ蒸着装置。(θ/2)-30°≦α≦(θ/2)+30°ここに、θはターゲット表面の法線に対するレーザの入射角、αは基板の中心点とターゲットのレーザ照射点とを結ぶ線がターゲット表面の法線となす角。

請求項（抜粋）：

真空容器内にターゲット物質および蒸着基板を配置し、ターゲット物質にレーザ光を照射することにより基板上に物質を蒸着するようにしたレーザフラッシュ蒸着装置において、ターゲット,レーザ入射方向および蒸着基板を以下の幾何学的関係を満足するように配置したことを特徴とするレーザフラッシュ蒸着装置。(θ/2)-30°≦α≦(θ/2)+30°ここに、θはターゲット表面の法線に対するレーザの入射角、αは基板の中心点とターゲットのレーザ照射点とを結ぶ線がターゲット表面の法線となす角。

IPC (2件)：

C23C 14/28 ,  C23C 14/54