特許
J-GLOBAL ID：200903055509327259
光学式試料分析装置及び光学式試料分析方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-057626
公開番号（公開出願番号）：特開平6-175031
出願日： 1991年03月01日
公開日（公表日）： 1994年06月24日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】材料の光学定数、吸収率及び/又は屈折率を容易に且つ正確に決定することができる光学系、分析装置及び分析方法を提供することにある。【構成】第1マスク5、第1ミラー光学系11、試料面13、第2ミラー光学系10、第2マスク8及び検出器を含み、第1及び第2のマスク5,8はそれぞれ光学系の光路12に沿ってフーリエ面又はこれと共役な面に位置決めされる。第1マスク5は少なくとも1個の入射開口を有し、試料3に入射する放射エネルギーの入射角を決定する。第2マスク8も少なくとも1個の出射開口を有し、予め選択した角度で試料3で反射し又は透過した放射エネルギーを通過させる。径方向の位置及び円周方向の位置が互いに相違する複数の入射開口及び出射開口をそれぞれ有する多数の第1及び第2マスクを用いて、試料を移動させずに又は試料を特別に用意することなく種々の分析を行なう。
請求項（抜粋）：
光路に沿って放射エネルギーを放出する放射エネルギー源と、光路中にある試料面と、前記試料面に表面を有する分析すべき試料と、光学系のフーリエ面又はそれと共役な面又はこれらの面の近傍に移動可能に位置決めされている第1のマスク手段を含み、予め選択した入射角の放射エネルギーだけを試料表面に選択的に入射させる放射エネルギー入射手段と、光学系のフーリエ面又はそれと共役な面又はこれらの面の近傍に移動可能に位置決めされている第2のマスク手段を含み、予め選択した反射角、放射角又は透過角で試料から出射した反射エネルギー、放射エネルギー及び/又は透過エネルギーだけを選択的に通過させ、試料から反射し、放射され又は透過したエネルギーを集光する手段と、光路中に配置され、第2マスク手段を通過した放射エネルギーを受光して試料の選択された特性を分析する検出器とを具えることを特徴とする光学式試料分析装置。
IPC (3件)：
G02B 21/00
, G01J 3/42
, G01N 21/27
