特許

J-GLOBAL ID：200903055531803935

流体処理装置および流体処理方法

発明者： 当麻 均 ,  江口 健
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 徳廣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-171429
公開番号（公開出願番号）：特開2006-341232
出願日： 2005年06月10日
公開日（公表日）： 2006年12月21日
要約：

【課題】 高速均一化を可能にする、且つ大量生産に非常に適した流体処理装置を提供する。【解決手段】 固定ディスク59に対して、モータ65の回転手段を連結した回転ディスク60を相対するように配し、該ディスクにより形成させる反応空間に、少なくとも二つの流体を上流下流の相対的位置関係で流体A流入口56と流体B流入口57より相独立して該プロセス空間に導入し、混合・反応を均一濃度空間で行えるようにした強制混合型流体処理装置。本強制混合型流体処理装置は、回転ディスク60の回転運動から誘発される流体の円形流れにより、流体の装置内滞留時間に影響を与えること無く、流体の均一混合を瞬間的に作り出すことができる。【選択図】 図11

請求項（抜粋）：

少なくとも二つの流体を混合若しくは反応させる流体処理装置において、少なくとも二つの流体を上流下流なる相対的位置関係で導入して混合若しくは反応させる処理空間と、該処理空間を形成する相対する壁面と、該壁面を相対的に変位させる変位手段とを有することを特徴とする流体処理装置。

IPC (5件)：

B01F 7/26 ,  B01F 15/00 ,  B01F 15/06 ,  B01J 19/00 ,  B81B 1/00

FI (5件)：

B01F7/26 Z ,  B01F15/00 Z ,  B01F15/06 Z ,  B01J19/00 321 ,  B81B1/00

Fターム (22件)：

4G037CA03 ,  4G037DA20 ,  4G037EA04 ,  4G075AA02 ,  4G075AA39 ,  4G075AA62 ,  4G075AA63 ,  4G075AA65 ,  4G075BB05 ,  4G075CA02 ,  4G075CA03 ,  4G075DA02 ,  4G075EA05 ,  4G075EB01 ,  4G075ED01 ,  4G075ED08 ,  4G078AA01 ,  4G078AB11 ,  4G078BA05 ,  4G078DA23 ,  4G078DC08 ,  4G078EA03

引用特許：

出願人引用 (3件)

• マイクロミキサ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-158051   出願人：富士電機株式会社
• マイクロリアクタ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-119497   出願人：株式会社安川電機
• 特開平3-68439号公報