α,α-ジフルオロ-β-ケトエステルの製造方法、及びジフルオロケテンシリルアセタールの製造方法、並びに光学活性なα,α-ジフルオロ-β-ヒドロキシエステルの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：逢坂宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-062046
公開番号（公開出願番号）：特開2001-247514
出願日： 2000年03月07日
公開日（公表日）： 2001年09月11日
要約：

【要約】【課題】 α,α-ジフルオロ-β-ケトエステルを高い収率で大量に製造する方法と、この製造方法で合成中間体として用いられるジフルオロケテンシリルアセタールの製造方法と、光学活性なα,α-ジフルオロ-β-ヒドロキシエステルを前記β-ケトエステルから効率的に大量に製造する方法とを提供すること。【解決手段】下記一般式〔1〕の酸ハライドと、下記一般式〔2〕のジフルオロケテンシリルアセタールとを好ましくは遷移金属系触媒の存在下に反応させて、下記一般式〔3〕のα,α-ジフルオロ-β-ケトエステルを得、更に必要あれば、このβ-ケトエステルを、水添触媒を用いた不斉水素化反応により対応する光学活性なα,α-ジフルオロ-β-ヒドロキシエステルに導く。【化10】(但し、前記各一般式において、R1、R2、R3、R3、R5はたとえばアルキル基を示し、X1はハロゲン原子を示す。)

請求項（抜粋）：

下記一般式〔1〕で表わされる酸ハライドと、下記一般式〔2〕で表わされるジフルオロケテンシリルアセタールとを無触媒条件下又は金属系触媒の存在下に反応させて、下記一般式〔3〕で表わされるα,α-ジフルオロ-β-ケトエステルを得ることを特徴とする、α,α-ジフルオロ-β-ケトエステルの製造方法。【化1】(但し、前記一般式〔1〕、〔2〕及び〔3〕において、R1は、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基又はアラルキルオキシ基を示し、R2は、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を示し、R3、R4及びR5は、互いに同一の若しくは異なる基であって、互いに共同して環状の基を形成してもよいアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基又はアラルキルオキシ基を示し、またX1はハロゲン原子を示す。)

IPC (10件)：

C07C 67/347 , B01J 27/122 , B01J 31/24 , C07B 53/00 , C07C 67/317 , C07C 69/675 , C07C 69/716 , C07B 61/00 300 , C07F 7/18 , C07M 7:00

FI (10件)：

C07C 67/347 , B01J 27/122 X , B01J 31/24 X , C07B 53/00 B , C07C 67/317 , C07C 69/675 , C07C 69/716 Z , C07B 61/00 300 , C07F 7/18 A , C07M 7:00

Fターム (29件)：

4H006AA02 , 4H006AC24 , 4H006AC42 , 4H006AC44 , 4H006AC81 , 4H006BA05 , 4H006BA23 , 4H006BA25 , 4H006BA37 , 4H006BA48 , 4H006BA53 , 4H006BE20 , 4H006BM10 , 4H006BM71 , 4H006BN10 , 4H006BR10 , 4H006KA31 , 4H039CA60 , 4H039CB20 , 4H049VN01 , 4H049VP01 , 4H049VQ10 , 4H049VQ19 , 4H049VQ20 , 4H049VR23 , 4H049VR41 , 4H049VS02 , 4H049VS09 , 4H049VU36

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