特許
J-GLOBAL ID：200903055545116965
電磁誘導加熱炉
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大島 正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-207069
公開番号（公開出願番号）：特開平8-075371
出願日： 1994年08月31日
公開日（公表日）： 1996年03月19日
要約：
【要約】【目的】 内部に充填した被加熱体を汚染することなく加熱するための加熱炉【構成】 加熱炉をシリコンブロックで作成し、シリコンブロックだけを直接高周波誘導加熱することにより、加熱炉内にあるシリコン以外の物質の加熱が避けられる。これにより、シリコン以外の物質からの不純物放出が抑制され、充填粒子を汚染することなく加熱することができる。
請求項（抜粋）：
電磁誘導により加熱されるシリコンブロックおよび該シリコンブロックの外側に位置する電磁誘導加熱コイルを有することを特徴とする、加熱された該シリコンブロックにより被加熱体を加熱するための加熱炉。
IPC (4件)：
F27B 17/00
, C23C 16/44
, F27D 11/06
, H01L 21/31
