特許
J-GLOBAL ID:200903055552678227

ペリクルのフォトマスクへの装着構造

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-336768
公開番号(公開出願番号):特開2003-222990
出願日: 2002年11月20日
公開日(公表日): 2003年08月08日
要約:
【要約】【課題】ペリクル板とフォトマスク面の平行度を、少なくともフォトマスク面とペリクルフレームとの接着により悪化させることがない、ペリクルのフォトマスクへの装着構造を得る。【解決手段】ペリクルフレーム1とペリクルフレーム1の一方の開口部に接着されたペリクル板2とを備えたペリクルの、フォトマスク5への装着構造であって、ペリクルフレーム1とフォトマスク5とが接触する面のうち少なくとも一部は接着剤を介さず、直接接触していることを特徴とする。
請求項(抜粋):
ペリクルフレームとペリクルフレームの一方の開口部に接着されたペリクル板とを備えたペリクルの、フォトマスクへの装着構造であって、ペリクルフレームとフォトマスクとが接触する面のうち少なくとも一部は接着剤を介さず、直接接触していることを特徴とするペリクルのフォトマスクへの装着構造。
IPC (2件):
G03F 1/14 ,  H01L 21/027
FI (2件):
G03F 1/14 J ,  H01L 21/30 502 P
Fターム (4件):
2H095BA06 ,  2H095BC34 ,  2H095BC38 ,  2H095BC39
引用特許:
出願人引用 (1件)

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