特許
J-GLOBAL ID:200903055563588165
蒸気洗浄方法
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大島 陽一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-099230
公開番号(公開出願番号):特開平7-283191
出願日: 1994年04月12日
公開日(公表日): 1995年10月27日
要約:
【要約】【目的】 蒸気洗浄に於いて汚染金属を除去可能な超精密洗浄を行う。【構成】 各貯留槽3a・3b内に酸または塩または塩基を含む水溶液、あるいはそれぞれに過酸化水素を含む水溶液を例えば薬液毎に貯留して、ヒータ5a・5bにより加熱して蒸発させ、ケーシング1内上部にキャリア4により保持されているウェハ2に対して蒸気洗浄を行う。また、アンモニア・過酸化水素・純水混合溶液や、塩酸・過酸化水素・純水混合溶液や、硫酸・過酸化水素・純水混合溶液や、塩酸・純水混合溶液による洗浄処理後に、上記各水溶液を適宜選択して蒸気洗浄を行う。【効果】 前段での各種薬液の混合溶液中での処理に於ける金属不純物が残っていても、エッチング性を有する結露液による蒸気洗浄を行うことにより、パーティクル(付着粒子)を増加させることなく金属不純物を除去し得る。
請求項(抜粋):
被洗浄体の表面を蒸気で洗浄する際に、該蒸気に用いる洗浄液が酸を含む水溶液であることを特徴とする蒸気洗浄方法。
IPC (2件):
H01L 21/304 341
, B08B 3/08
引用特許:
審査官引用 (4件)
-
特開平3-284842
-
特開平4-079325
-
基板表面処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-108970
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
前のページに戻る