特許

J-GLOBAL ID：200903055573647321

フォーカス検査方法及び装置

発明者： 薄 敏 彦
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-167441
公開番号（公開出願番号）：特開平9-017720
出願日： 1995年07月03日
公開日（公表日）： 1997年01月17日
要約：

【要約】【課題】 製品ウェーハレベルでフォーカス状態の良否を自動的に判定することを可能にする。【解決手段】 予めフォーカスを振って作成した製品ウェーハの特定部分のパターンをパターンライブラリとしてそのパターンのフォーカス値と共に多数登録しておく。そして、製造工程において読取った製品のパターンと、ライブラリパターンとを比較して最も近似するライブラリパターンを抽出する。抽出したパターンに対応付けられたフォーカス値を参照して製品ウェーハのフォーカス値を判定する。

請求項（抜粋）：

半導体製造プロセスのパターニング過程においてウェーハ上に塗布されたレジスト膜へのパターン露光が適切なフォーカス状態でなされたかどうかを判別するフォーカス検査装置であって、前記ウェーハの特定部分に形成されたパターンを読取る画像読取り手段と、前記ウェーハの特定部分に形成されるべきパターンを特定のフォーカス値で露光してパターニングし、ウェーハに形成されたパターンを読取って得られる読取り画像を、予め多数のフォーカス値について集めたパターンの読取り画像群を各画像のフォーカス値と共に保持するパターン記憶手段と、前記画像読取り手段によって読取られた、前記パターニング過程のウェーハの前記特定部分のパターンと前記読取り画像群とを比較し、最も近似する画像を抽出する手段と、抽出された画像に対応付られたフォーカス値を出力する出力手段と、を備えることを特徴とするフォーカス検査装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/207 ,  G03F 9/02

FI (6件)：

H01L 21/30 526 Z ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/207 ,  G03F 9/02 H ,  H01L 21/30 502 V ,  H01L 21/30 516 Z