有機材料を光の損傷作用から保護するための4-シアノ-ナフタレン-1,8-ジカルボキシミド誘導体および関連化合物の使用

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：矢野敏雄 , 山崎利臣 , 久野琢也 , アインゼル・フェリックス=ラインハルト
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-538810
公開番号（公開出願番号）：特表2007-534781
出願日： 2004年11月12日
公開日（公表日）： 2007年11月29日
要約：

本発明は、光の損傷作用から有機材料を保護するための式Iのナフタレン-1,8-ジカルボン酸モノイミドの使用、光の損傷作用から保護を提供する量で式(I)の少なくとも1つのナフタレン-1,8-ジカルボン酸モノイミドと少なくとも1つの有機材料を有する組成物、および新規ナフタレン-1,8-ジカルボン酸モノイミド(I)を提供する。

請求項（抜粋）：

光の損傷作用から有機材料を保護するための、式I

IPC (4件)：

C09K 3/00 , C07D 221/14 , C08L 101/00 , C08K 5/343

FI (4件)：

C09K3/00 104B , C07D221/14 , C08L101/00 , C08K5/3437

Fターム (33件)：

4C034CG03 , 4J002AA011 , 4J002BB021 , 4J002BB031 , 4J002BB111 , 4J002BB121 , 4J002BB141 , 4J002BB171 , 4J002BC031 , 4J002BC061 , 4J002BC091 , 4J002BE061 , 4J002BG041 , 4J002BG051 , 4J002BG101 , 4J002BN151 , 4J002CF031 , 4J002CF061 , 4J002CF071 , 4J002CF081 , 4J002CG001 , 4J002CG011 , 4J002CK021 , 4J002EE037 , 4J002ET007 , 4J002EU056 , 4J002EU177 , 4J002FD010 , 4J002FD056 , 4J002FD057 , 4J002FD090 , 4J002GG00 , 4J002GN00

引用特許：

出願人引用 (8件)

繊維の処理
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-113495 出願人：チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト
特開昭49-057048
特公昭39-011770

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審査官引用 (14件)

繊維の処理
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-113495 出願人：チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト
特開昭49-057048
特開昭49-057048

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引用文献：

出願人引用 (2件)

DATA BASE REGISTRY(STN), Chemical Library, Supplier: Interbioscreen Ltd., STN Files:CHEMCATS
DATA BASE REGISTRY(STN), Chemical Library, Supplier: Enamine, STN Files:CHEMCATS

審査官引用 (4件)

DATA BASE REGISTRY(STN), Chemical Library, Supplier: Interbioscreen Ltd., STN Files:CHEMCATS
DATA BASE REGISTRY(STN), Chemical Library, Supplier: Interbioscreen Ltd., STN Files:CHEMCATS
DATA BASE REGISTRY(STN), Chemical Library, Supplier: Enamine, STN Files:CHEMCATS

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