半導体デバイス製造プラントにおける物質供給システム

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：社本一夫 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-088153
公開番号（公開出願番号）：特開2003-282386
出願日： 2002年03月27日
公開日（公表日）： 2003年10月03日
要約：

【要約】【課題】多品種少量生産の小規模工場における純水供給システムを、製品生産効率を低下させることなく低コスト化する。【解決手段】純水製造装置10は、複数グレードの純水を製造して、洗浄装置31、CMP32、リソグラフィ33等のユースポイントを循環している配管に純水供給する。制御装置20は、各ユースポイントからの純水使用開始の要求信号を受け取ると、そのグレードの純水の供給可能容量を超えないか否かを判定し、超えない場合に、純水使用を許可するための使用許可信号を、ユースポイントに通知する。制御装置20は、あるユースポイントがそのグレードの純水を使用中の場合、該ユースポイントから使用終了信号が通知されるまで、新規の純水利用を不許可にするよう、制御してもよい。

請求項（抜粋）：

半導体デバイス製造プラントにおける複数の処理設備に対して、気体、液体、又は固体からなる同一種類の物質を供給する物質供給システムにおいて、物質の供給ソースと、供給ソースからの物質の複数の処理設備への供給を制御する制御装置であって、複数の処理設備で現在使用中の物質の総和が、供給ソースから供給可能な量を超えないように、処理設備での物質の供給開始時点を制御する制御装置とからなることを特徴とする物質供給システム。

引用特許：

審査官引用 (4件)

生産システム、生産方法、生産設備設計システム、生産設備設計方法及び生産設備製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-165411 出願人：株式会社東芝
特開平4-290229
混合装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-310423 出願人：トキコ株式会社

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