特許
J-GLOBAL ID:200903055585587251

透明導電体の製造方法および透明導電性フイルム

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-030210
公開番号(公開出願番号):特開平11-232940
出願日: 1998年02月12日
公開日(公表日): 1999年08月27日
要約:
【要約】【課題】低温(200°C以下)で透明導電性素材を任意のパターンで簡便に付与する方法を提供する。【解決手段】透明基体の表面特性を、化学的処理および/または光エネルギーを付与してパターニングし、該表面に導電性素材を含有する親水性液体または疎水性液体を付与してパターニングに対応した形状に導電性素材を形成することを特徴とする透明導電体の製造方法。
請求項(抜粋):
透明基体の表面極性を、化学的処理および/または光エネルギーを付与することによってパターニングし、該表面に導電性素材を含有する親水性液体または疎水性液体を付与して該パターニングに対応した形状に導電性素材を形成することを特徴とする透明導電体の製造方法。
IPC (2件):
H01B 13/00 503 ,  H01B 5/14
FI (2件):
H01B 13/00 503 D ,  H01B 5/14 A

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