特許
J-GLOBAL ID：200903055585922026
電子ビームの照射方法及び照射装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-184112
公開番号（公開出願番号）：特開平5-009585
出願日： 1991年06月28日
公開日（公表日）： 1993年01月19日
要約：
【要約】【構成】 連続走行中の金属ストリップに対し、電子ビームを連続的に照射する方法において、必要時のみ金属ストリップに照射し、それ以外の時は、別途用意したアイドルターゲットにたいして電子ビームを照射する。【効果】 製品品質の低下や設備の無駄を招く不利なしに、必要生産量に応じたムダのない生産が可能である。
請求項（抜粋）：
連続走行中の金属ストリップに対し、電子ビームを連続的に照射する方法において、金属ストリップに対する必要照射時以外は、別途用意したアイドルターゲットに電子ビーム照射を行なうことを特徴とする電子ビームの照射方法。
引用特許：
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