特許

J-GLOBAL ID：200903055586000254

磁気ディスク基板用アルミニウム合金

発明者： 大堀 紘一 ,  向尾 三男 ,  佐々木 明
出願人/特許権者： 三菱アルミニウム株式会社
代理人 (1件)： 潮谷 奈津夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-124261
公開番号（公開出願番号）：特開平7-310135
出願日： 1994年05月13日
公開日（公表日）： 1995年11月28日
要約：

【要約】【目的】 平面性およびメッキ層の密着性が一層向上し、しかもピット欠陥がなく、耐食性に優れた、磁気デイスク基板用アルミニウム合金を提供する。【構成】 この発明による磁気デイスク基板用アルミニウム合金は、Mg:3.0〜5.0wt%、Zn:0.10〜0.30wt%、Cu:0.05〜0.20wt%、Cr:0.05〜0.15wt%、Zr:0.05〜0.15wt%およびFe:0.01〜0.10wt%を含有し、更に、不純物としてのSi、TiおよびBの含有量は、Si:0.02wt%以下、Ti:0.01wt%以下およびB:10ppm以下に限定され、残部がAlおよびその他の不可避不純物からなる。

請求項（抜粋）：

マグネシウム(Mg):3.0 〜5.0wt%、亜鉛(Zn) :0.10〜0.30wt%、銅(Cu) :0.05〜0.20wt%、クロム(Cr) :0.05〜0.15wt%、ジルコニウム(Zr):0.05〜0.15wt%、および鉄(Fe) :0.01〜0.10wt%を含有し、更に、不純物としてのシリコン、チタンおよびボロンの含有量は、シリコン(Si) :0.02wt%以下、チタン(Ti) :0.01wt%以下、およびボロン(B) :10ppm以下に限定され、残部がアルミニウム(Al)およびその他の不可避不純物からなることを特徴とする、磁気デイスク基板用アルミニウム合金。