ガラス基板の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山下穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-354020
公開番号（公開出願番号）：特開平5-211358
出願日： 1991年12月19日
公開日（公表日）： 1993年08月20日
要約：

【要約】【目的】オリエンテーションフラット部の位置を検出する光センサの検出精度を上げる。【構成】ガラス基板1のチップ2のパターン4A,4Bの間に、このチップ2を透過する検査用の光を遮蔽するダミーパターン5を形成する。

請求項（抜粋）：

オリエンテーションフラット部の位置を光センサで検出してガラス基板を位置決めし、前記ガラス基板の表面に磁気抵抗素子のパターンを形成するガラス基板の製造方法において、前記パターンにダミーパターンを形成したことを特徴とするガラス基板の製造方法。

IPC (3件)：

H01L 43/12 , G01B 11/00 , G03F 1/08

引用特許：

審査官引用 (2件)

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