特許
J-GLOBAL ID:200903055626140585
石英ガラスの深紫外レーザによる内部誘起緻密化
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
柳田 征史 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-527251
公開番号(公開出願番号):特表2003-510656
出願日: 2000年09月29日
公開日(公表日): 2003年03月18日
要約:
【要約】軟質石英ベース材料でつくられるバルクガラス基板(4)の選択を含む、バルクガラス基板(4)に光導波構造(26)を書き込む方法。基板内の焦点(3)にエキシマーレーザビーム(5)を集束させ、同時に焦点を走査経路に沿って基板に対して平行移動させる。走査経路に沿う材料の屈折率の非露光材料の屈折率に対する増大を誘起し、同時に走査経路に沿う材料のレーザ誘起破壊がほとんど全く生じないような走査速度で、レーザビーム(5)を移動させる。導波路を含む様々な光デバイスをこの方法で作成することができる。
請求項(抜粋):
バルクガラス基板内部に光導波構造を書き込む方法において: a) 軟質石英ベース材料からつくられるバルクガラス基板を選択する工程と; b) 深UV(紫外)レーザビームを前記材料内部の焦点に集束させるとともに、前記焦点を、前記基板に対し走査経路に沿って、露光されない前記材料の密度に対する前記走査経路に沿う前記材料の密度の増大を誘起するに有効であるが前記走査経路に沿う前記材料のレーザ誘起破壊は実質的に生じさせない走査速度で、平行移動させる工程とを;含むことを特徴とする方法。
IPC (2件):
FI (2件):
G02B 6/12 A
, G02B 6/12 N
Fターム (4件):
2H047KA02
, 2H047PA00
, 2H047PA22
, 2H047QA04
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