特許
J-GLOBAL ID：200903055627592145
超伝導加速空洞の表面研磨方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
倉田 政彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-103933
公開番号（公開出願番号）：特開2000-294398
出願日： 1999年04月12日
公開日（公表日）： 2000年10月20日
要約：
【要約】【課題】低コストで高い加速電界を安定的に示す高性能な超伝導加速空洞を実現する新しい表面研磨方法を提供する。【解決手段】両端に開口部を有する金属製の中空体であって、少なくとも内面がニオブから構成される超伝導加速空洞の表面を研磨する方法において、内面をまず化学的に研磨除去する工程と続いて電気化学的に研磨除去する工程とを併用する。超伝導加速空洞の内面は0.2〜10mmの厚みを有するニオブ材ないしニオブと他の金属との複層から構成され、化学研磨によるニオブの研磨除去厚は50〜300μmとし、続いて行う電解研磨によるニオブの研磨除去厚は5〜100μmとする。研磨は中空体の軸心が地面と水平になる様にセットした状態で、軸心を中心に回転を付与しつつ行う。
請求項（抜粋）：
両端に開口部を有する金属製の中空体であって、少なくとも内面がニオブから構成される超伝導加速空洞の表面を研磨する方法において、内面をまず化学的に研磨除去する工程と続いて電気化学的に研磨除去する工程とを併用することを特徴とする超伝導加速空洞の表面研磨方法。
Fターム (3件)：
2G085BA04
, 2G085EA01
, 2G085EA04
