特許
J-GLOBAL ID：200903055631927356
露光用の相補形マスク、その製造方法及びその製造プログラム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
逢坂 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-316933
公開番号（公開出願番号）：特開2004-153032
出願日： 2002年10月31日
公開日（公表日）： 2004年05月27日
要約：
【課題】露光マスクの破損や変形を防止して、露光精度を向上させることのできる、露光用の相補形マスク、その製造方法及びその製造プログラムを提供することにある。【解決手段】露光用ビームによって所定パターンに露光するのに用いる相補形マスクであって、主マスク4Aのマスクパターン2Aの内周角部に丸み形状4を付けているために、この内周角部に生じる主マスク内の応力の集中を防ぐことができ、応力の集中による主マスクの破損や変形を防止することができる。また、丸み形状4が必要なサイズを既にデータベース10として保持し、ここから丸み形状の寸法を読み出して、丸み形状を有する主マスクパターン2Aと補助マスクパターン2Bとを決定するので、丸み形状を有する主マスクパターン2Aと補助マスクパターン2Bとについての判定データを容易にかつ短時間で読み出し、決定することができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
露光ビームによって所定パターンに露光するのに用いる相補形マスクであって、
第1の露光ビーム透過部を有し、この第1の露光ビーム透過部の内周角部に
丸み形状が付けられた主マスクと、
前記丸み形状によって生じた非露光部を補い、前記第1の露光ビーム透過部と相加して前記所定パターンの露光領域を形成するための第2の露光ビーム透
過部を有する補助マスクと
を具備する、露光用の相補形マスク。
IPC (3件)：
H01L21/027
, G03F1/16
, H01J37/305
H01L21/30 541S
, G03F1/16 B
, H01J37/305 B
2H095BA05
, 2H095BA08
, 2H095BB01
, 2H095BB02
, 2H095BB36
, 2H095BB37
, 2H095BC09
, 5C034BB05
, 5F056AA06
, 5F056EA04
, 5F056FA05
