特許
J-GLOBAL ID：200903055659145027
欠陥検出方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-369222
公開番号（公開出願番号）：特開平11-194099
出願日： 1997年12月26日
公開日（公表日）： 1999年07月21日
要約：
【要約】【課題】 連続的に存在する欠陥部分や同一の欠陥部分を効率よく検出する。【解決手段】 繰返しパターンP(n)[nは配列間隔を単位とする配列座標であり、n=1、2、3、...]と隣り合うパターンP(n+m)[mは1又-1]とを差分処理して差分データS(n)を得る第1段階と、略同じ欠陥が連続する可能性のあるパターン個数Kを設定する第2段階と、得られた差分データS(n)からK個以上連続する無欠陥パターンを検出する第3段階と、前記差分データS(n)におけるK個以上連続する無欠陥パターンを基準にして、差分データS(n)とパターンP(n)並びに隣り合うパターンP(n+m)との比較に基づいてパターンP(n)上の欠陥を特定する第4段階と、を備える。
請求項（抜粋）：
繰り返し性のあるパターンを有する被検物の欠陥を検出する欠陥検出方法において、繰返しパターンP(n)[nは配列間隔を単位とする配列座標であり、n=1、2、3、...]と隣り合うパターンP(n+m)[mは1又-1]とを差分処理して差分データS(n)を得る第1段階と、略同じ欠陥が連続する可能性のあるパターン個数Kを設定する第2段階と、得られた差分データS(n)からK個以上連続する無欠陥パターンを検出する第3段階と、前記差分データS(n)におけるK個以上連続する無欠陥パターンを基準にして、差分データS(n)とパターンP(n)並びに隣り合うパターンP(n+m)との比較に基づいてパターンP(n)上の欠陥を特定する第4段階と、を備えることを特徴とする欠陥検出方法。
IPC (3件)：
G01N 21/88
, G06T 7/00
, H01L 21/66
G01N 21/88 J
, H01L 21/66 J
, G06F 15/62 405 A
