特許
J-GLOBAL ID：200903055660159180
光造形法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
正林 真之
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2000005174
公開番号（公開出願番号）：WO2001-010632
出願日： 2000年08月02日
公開日（公表日）： 2001年02月15日
要約：
【要約】マスクパターンを使用する光造形法において、大量かつ迅速な造形を行うことができ、かつ、精度の高い立体造形物を作製することができるようにするために、光造形法用樹脂組成物の表面に直接的に所定のマスクパターンを描画し、当該マスクパターンの上から光照射をすることによって、光硬化性成分を含む光造形法用樹脂組成物の表面にマスクパターンを介して光照射を行う。そして、当該描画に対応した硬化樹脂層を形成する操作を繰り返すことにより、当該硬化樹脂層が複数積層されてなる立体的な造形物を形成するようにする。これにより、ビームスキャンとは異なり、断面が一様で均一な硬化が行えるようになる。
請求項（抜粋）：
光硬化性成分を含む光造形法用樹脂組成物の表面に描画的な光照射を行うことによって当該描画に対応した硬化樹脂層を形成する操作を繰り返すことにより、当該硬化樹脂層が複数積層されてなる立体的な造形物を形成する光造形法であって、 前記描画的な光照射は、前記光造形法用樹脂組成物の表面に直接的に所定のマスクパターンを描画し、当該マスクパターンの上から光照射をすることによって行うことを特徴とする光造形法。
IPC (1件)：
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