特許
J-GLOBAL ID:200903055660889536

形状測定装置及び形状測定方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 作田 康夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-302265
公開番号(公開出願番号):特開2005-069953
出願日: 2003年08月27日
公開日(公表日): 2005年03月17日
要約:
【課題】 半導体ウェハなどの試料を、断面形状などを非接触及び非破壊方式で計測する形状測定装置を提供する。【解決手段】 試料に対して走査方向の軸に沿って相対移動しながら試料の表面に電磁波または荷電粒子を照射する照射手段と、照射手段から照射され試料で反射した電磁波または試料から発生した荷電粒子の信号強度を検出する信号強度検出手段と、信号強度検出手段の検出出力を基に電磁波または荷電粒子の照射位置における試料表面の傾斜角を算出し、断面形状を測定する形状測定装置とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
試料に対して走査方向の軸に沿って相対移動しながら試料の表面に電磁波または荷電粒子を照射する照射手段と、照射手段から照射され試料で反射した電磁波または試料から発生した荷電粒子の信号強度を検出する信号強度検出手段と、信号強度検出手段の検出出力を基に電磁波または荷電粒子の照射位置における試料表面の傾斜角を算出し、断面形状を測定することを特徴とする形状測定装置。
IPC (1件):
G01B15/04
FI (1件):
G01B15/04
Fターム (14件):
2F067AA32 ,  2F067AA52 ,  2F067BB04 ,  2F067CC17 ,  2F067EE03 ,  2F067HH06 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK08 ,  2F067NN06 ,  2F067PP13 ,  2F067RR12 ,  2F067RR20 ,  2F067RR42 ,  2F067SS13
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (2件)
  • 特開平1-311551
  • 特開平3-233310

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