特許
J-GLOBAL ID：200903055662965779
薄膜作成方法ならびにその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-187587
公開番号（公開出願番号）：特開平6-005529
出願日： 1992年06月22日
公開日（公表日）： 1994年01月14日
要約：
【要約】【目的】 集積回路やセンサー等に用いられる薄膜を任意の領域にのみ一括かつ高速で作成する方法ならびに装置を提供する。【構成】 光源14より出た光をパターニングされたマスク2と適当な光学系3を通して、基板5に照射する。一方、基板5は冷却台6より冷却されており、原料は基板5の表面上で凝縮せしめられている。従って、原料が凝縮された基板5の表面にパターニングされた光を投影することで、任意の領域にのみ、一括かつ高速で、薄膜が作成される。
請求項（抜粋）：
成膜を目的とする膜の成分元素を含む有機物質を、気体状にして反応容器内に供給し、常温以下に冷却された基板上で凝縮させるとともに、該基板上の任意の部分に光を照射して、光を照射した部分にのみ目的とする膜が形成されるようにしたことを特徴とする薄膜作成方法。
IPC (4件)：
H01L 21/205
, C23C 14/12
, C30B 23/06
, H01L 21/263
