特許
J-GLOBAL ID:200903055664193633

有機ELディスプレイの製造方法及び有機ELディスプレイ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 前田 弘 ,  竹内 祐二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-076640
公開番号(公開出願番号):特開2008-235178
出願日: 2007年03月23日
公開日(公表日): 2008年10月02日
要約:
【課題】レーザリペア時のダメージを良好に抑制すると共に、封止プロセスを行なった後に雰囲気制御することなくレーザリペアすることができる有機ELディスプレイの製造方法及びそれにより製造された有機ELディスプレイを提供することである。【解決手段】有機ELディスプレイの製造方法は、基板、第1電極、発光層を有する有機層及び第2電極がこの順で積層されてなる積層構造体を備えると共に積層構造体内部に輝点欠陥部を有する有機EL素子を準備し、有機EL素子の輝点欠陥部に対応する有機層内の所定層にレーザ光を照射し、多光子吸収を生じさせて欠損部で構成された非発光部を形成する。【選択図】図2
請求項(抜粋):
基板、第1電極、発光層を有する有機層及び第2電極がこの順で積層されてなる積層構造体を備えると共に該積層構造体内部に輝点欠陥部を有する有機EL素子を準備し、該有機EL素子の輝点欠陥部に対応する該有機層内の所定層にレーザ光を照射し、多光子吸収を生じさせて欠損部で構成された非発光部を形成する有機ELディスプレイの製造方法。
IPC (3件):
H05B 33/10 ,  H05B 33/12 ,  H01L 51/50
FI (3件):
H05B33/10 ,  H05B33/12 E ,  H05B33/14 A
Fターム (6件):
3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC45 ,  3K107EE22 ,  3K107EE42 ,  3K107GG57
引用特許:
出願人引用 (3件)

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