特許
J-GLOBAL ID:200903055675148400

塗布膜形成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中本 菊彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-170560
公開番号(公開出願番号):特開2002-045757
出願日: 1996年08月30日
公開日(公表日): 2002年02月12日
要約:
【要約】【課題】 薄い膜厚の塗布を可能にし、かつ膜厚の均一化及び塗布液の低減化を図れるようにすること。【解決手段】 レジスト液Bを帯状に吐出するレジスト液供給ノズル21とウエハWとをレジスト液Bの吐出ノズル並びの方向と直交する方向に相対的に移動させる。レジスト液供給ノズル21を、流量制御手段37を介してレジスト液収容タンク25と接続し、レジスト液供給ノズル21の途中に溶剤収容タンク26と連通する溶剤供給手段22のノズル孔22aを接続する。これにより、レジスト液供給ノズル21内で、レジスト液Bと溶剤Aとを混合し、レジスト液Bの粘度、濃度を調整して吐出し、ウエハWの一面上にレジスト膜を形成することができる。
請求項(抜粋):
塗布液供給手段と被処理体とを相対的に移動させて、上記被処理体上に塗布膜を形成する塗布膜形成装置であって、上記塗布液供給手段を構成する塗布液供給ノズル内において、上記塗布液の粘度、濃度を調整すべく塗布液と溶剤とを混合可能に形成してなることを特徴とする塗布膜形成装置。
IPC (7件):
B05C 5/00 101 ,  B01F 3/08 ,  B01F 5/02 ,  B05B 7/04 ,  B05C 11/10 ,  G03F 7/16 501 ,  H01L 21/027
FI (7件):
B05C 5/00 101 ,  B01F 3/08 Z ,  B01F 5/02 Z ,  B05B 7/04 ,  B05C 11/10 ,  G03F 7/16 501 ,  H01L 21/30 564 Z
Fターム (45件):
2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025EA04 ,  4F033QA01 ,  4F033QB03X ,  4F033QB03Y ,  4F033QB16Y ,  4F033QB17 ,  4F033QC02 ,  4F033QD02 ,  4F033QD14 ,  4F033QE05 ,  4F033QE14 ,  4F033QF02X ,  4F033QF02Y ,  4F033QF07X ,  4F033QF07Y ,  4F033QF15X ,  4F033QF15Y ,  4F041AA02 ,  4F041AA06 ,  4F041AB02 ,  4F041BA02 ,  4F041BA04 ,  4F041BA11 ,  4F041BA22 ,  4F041BA35 ,  4F041BA43 ,  4F041BA57 ,  4F041CA02 ,  4F041CA17 ,  4F041CA23 ,  4F042AA02 ,  4F042AA07 ,  4F042BA15 ,  4F042BA17 ,  4F042BA25 ,  4F042CB02 ,  4F042CB03 ,  4F042CB08 ,  4F042CB27 ,  4G035AB37 ,  4G035AC19 ,  5F046JA01 ,  5F046JA02
引用特許:
審査官引用 (3件)

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