特許
J-GLOBAL ID：200903055686037473
ガリウム化合物の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青山 葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-342662
公開番号（公開出願番号）：特開平11-172424
出願日： 1997年12月12日
公開日（公表日）： 1999年06月29日
要約：
【要約】【課題】 ターゲットにガリウムを使用し、スパッタ法でガリウム化合物膜、特に窒化ガリウム膜を製造することができる方法を提供すること。【解決手段】 29°C以下に冷却したガリウムをターゲットに用いることを特徴とするスパッタ法によるガリウム化合物の製造方法。
請求項（抜粋）：
29°C以下に冷却したガリウムをターゲットに用いることを特徴とするスパッタ法によるガリウム化合物の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/34 A
, C23C 14/58 Z
