特許

J-GLOBAL ID：200903055695397369

ポジ型レジスト組成物

発明者： 河田 正司 ,  林 宏 ,  東 広和 ,  加藤 丈佳
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-022272
公開番号（公開出願番号）：特開平8-194311
出願日： 1995年01月17日
公開日（公表日）： 1996年07月30日
要約：

【要約】【目的】 感度・解像度・残膜率・パターン形状に優れたレジスト組成物を提供する。【構成】 フェノール類とα,α’-2置換キシレン類との縮合体(a)およびキノンジアジドスルホン酸エステル系感光剤(b)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)で表される構造単位を有するアルカリ可溶性フェノール樹脂(a)およびキノンジアジドスルホン酸エステル系感光剤(b)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】(式中、R1 〜R3は互いに独立に水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、置換可アルキル基、置換可シクロアルキル基、置換可アルケニル基、置換可アルコキシ基、置換可アリール基である。R4 〜R11は、互いに独立に水素原子、ハロゲン原子、置換可アルキル基、置換可シクロアルキル基、置換可アルケニル基、置換可アリール基、置換可アルコキシ基である。)【0001】

IPC (3件)：

G03F 7/023 511 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/027