特許
J-GLOBAL ID:200903055700973608

低損失酸化物磁性材料の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 後藤 洋介 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-139442
公開番号(公開出願番号):特開平6-140230
出願日: 1991年05月16日
公開日(公表日): 1994年05月20日
要約:
【要約】【目的】 処理する酸化物粉末の量にかかわらず、均一な粒子系で粒度分布のシャープな低損失酸化物磁性材料を製造すること。【構成】 予備焼成の前段階に0〜1.0重量%のビスマス成分が含有されるよう、ビスマス又はビスマス化合物を添加し、次いで600〜1100°Cで予備焼成した後、粉砕、バインダー混合、プレス成形、焼成する。
請求項(抜粋):
主成分として30〜40モル%の酸化マンガン(MnO)、5〜15モル%の酸化亜鉛(ZnO)及び残部として酸化第二鉄(Fe2 O3 )を含み、副成分として0.01〜0.15重量%の酸化カルシウム(CaO)と0.005〜0.10重量%の二酸化ケイ素(SiO2 )とを含む低損失酸化物磁性材料を製造する方法において、予備焼成の前段階に0〜1.0重量%(0%を除く)のビスマス成分が含有されるように、ビスマス又はビスマス化合物を添加し、次いで600〜1100°Cの範囲で予備焼成することを特徴とする低損失酸化物磁性材料の製造方法。
IPC (3件):
H01F 1/34 ,  C01G 49/00 ,  C04B 35/38

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