連続的に供給される金属基板を処理するための方法および装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 森徹 , 岩本行夫
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-517867
公開番号（公開出願番号）：特表2004-506096
出願日： 2001年08月06日
公開日（公表日）： 2004年02月26日
要約：

本発明は、特に、処理区間を有する真空チャンバ(3)内をほぼ連続的に移動する金属基板(1)を清浄および/または加熱するための処理方法に関し、大気圧未満の圧力に維持した気体内で、少なくとも電極を形成する基板(1)と、少なくとも1つの対向電極(9)との間で、電気放電(10)すなわちプラズマおよび磁界を発生させて、電気放電(10)内に生成されたイオンが基板(1)に衝突する。かかる方法は、処理区間内で基板(1)の周囲全体に閉じ込め誘導磁界を生成して、電気放電(10)内に放出される電子の閉じ込めにより、前記処理区間内で基板(1)の周囲の領域に電気放電(10)も同様に閉じ込めるようにすることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

特に、処理区間を有する真空チャンバ(3)を通ってほぼ連続的に供給される金属基板(1)を清浄および/または加熱するための処理方法であって、前記処理区間内で、大気圧未満の圧力に維持した気体内で、少なくとも、電極として作用する前記基板(1)と、少なくとも1つの対向電極(9)との間で、電気放電(10)すなわちプラズマおよび磁界を発生させて、前記電気放電(10)内に生成されたイオンが前記基板(1)に衝突することができる処理方法において、前記処理区間内で前記基板(1)の周囲全体に閉じ込め誘導磁界を生成して、前記電気放電(10)内に放出される電子の閉じ込めにより、この処理区間内で前記基板(1)の周囲の領域に前記電気放電(10)も閉じ込めるようにすることを特徴とする、処理方法。

IPC (5件)：

C23F4/00 , B01J3/00 , B01J19/08 , H05H1/24 , H05H1/46

FI (5件)：

C23F4/00 A , B01J3/00 J , B01J19/08 E , H05H1/24 , H05H1/46 A

Fターム (33件)：

4G075AA29 , 4G075AA30 , 4G075BA05 , 4G075BB10 , 4G075CA02 , 4G075CA15 , 4G075CA42 , 4G075CA47 , 4G075CA62 , 4G075CA65 , 4G075DA02 , 4G075DA18 , 4G075EB01 , 4G075EC21 , 4G075EC26 , 4G075ED20 , 4G075FC20 , 4K057DA01 , 4K057DB01 , 4K057DB02 , 4K057DB04 , 4K057DB05 , 4K057DD01 , 4K057DE14 , 4K057DE20 , 4K057DM02 , 4K057DM06 , 4K057DM22 , 4K057DM24 , 4K057DM36 , 4K057DM39 , 4K057DM40 , 4K057DN10

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