特許

J-GLOBAL ID：200903055709612551

重ね合わせ電子露光用転写マスク及びその製造方法

発明者： 片倉 則浩
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-231749
公開番号（公開出願番号）：特開2001-057331
出願日： 1999年08月18日
公開日（公表日）： 2001年02月27日
要約：

【要約】【目的】マイクロローディング効果及びローディング効果の影響を受けず、転写マスクブランクスのメンブレンに精度良くパターンを形成することができる転写マスク及び製造方法を提供する。【解決手段】開口パターンが形成されたメンブレンを備えた2枚一組の重ね合わせ電子露光用転写マスクであって、感光基板に転写すべき線幅の異なるパターンを、メンブレンからなる小領域内において、線幅が略同じになるように分割し、2枚の転写マスクに振り分け、メンブレンに開口パターンを形成してなる2枚一組の重ね合わせ電子露光用転写マスク。

請求項（抜粋）：

開口パターンが形成されたメンブレンを備えた2枚一組の重ね合わせ電子露光用転写マスクであって、感光基板に転写すべき線幅の異なるパターンを、メンブレンからなる小領域内において、線幅が略同じになるように分割し、2枚の転写マスクに振り分け、メンブレンに開口パターンを形成してなる2枚一組の重ね合わせ電子露光用転写マスク。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16

FI (2件)：

H01L 21/30 541 S ,  G03F 1/16 B

Fターム (10件)：

2H095BA08 ,  2H095BB01 ,  2H095BB31 ,  2H095BC27 ,  5F056AA22 ,  5F056CA05 ,  5F056CD13 ,  5F056EA04 ,  5F056FA05 ,  5F056FA07