特許

J-GLOBAL ID：200903055713044380

希薄被処理液の処理方法およびその処理装置

発明者： 浅川 友二
出願人/特許権者： オルガノ株式会社
代理人 (1件)： 岸田 正行 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-050578
公開番号（公開出願番号）：特開平11-244846
出願日： 1998年03月03日
公開日（公表日）： 1999年09月14日
要約：

【要約】【課題】 より小さな吸着装置で処理が可能な希薄被処理水の処理方法を提供する。【解決手段】 除去対象物質濃度が低い希薄被処理液を濃縮手段により処理して濃縮液と希薄液に分離し、該濃縮液を吸着処理することを特徴とする希薄被処理液の処理方法。

請求項（抜粋）：

除去対象物質濃度が低い希薄被処理液を濃縮手段により処理して濃縮液と希薄液に分離し、該濃縮液を吸着処理することを特徴とする希薄被処理液の処理方法。

IPC (6件)：

C02F 1/28 ,  B01D 15/00 ,  B01D 61/02 ,  B01D 61/14 ,  B01J 20/20 ,  B01J 20/26

FI (7件)：

C02F 1/28 A ,  C02F 1/28 F ,  B01D 15/00 M ,  B01D 61/02 ,  B01D 61/14 ,  B01J 20/20 Z ,  B01J 20/26 B

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭53-045670
  
• 特開昭63-305982
  
• 特開平1-194986