特許
J-GLOBAL ID：200903055713393074
配向膜の配向処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-051030
公開番号（公開出願番号）：特開平9-218408
出願日： 1996年02月13日
公開日（公表日）： 1997年08月19日
要約：
【要約】【課題】 配向処理の工程を簡略化すると共に、配向処理の際のパーティクルの発生を防止することができる配向処理方法を提供する。【解決手段】 ガラス基板4上に設けられた未焼成の配向膜6に対して真空容器20内でイオンビーム14を照射し、それによって配向膜6の焼成と配向処理とを同時に行う。
請求項（抜粋）：
基板上に設けられた未焼成の配向膜に対して真空雰囲気中でイオンビームを照射し、それによって当該配向膜の焼成と配向処理とを同時に行うことを特徴とする配向膜の配向処理方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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