特許
J-GLOBAL ID:200903055735539692

微細加工表面処理剤

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 福森 久夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-227207
公開番号(公開出願番号):特開平10-070111
出願日: 1996年08月28日
公開日(公表日): 1998年03月10日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、成膜方法及び条件又はP、B、As等の種々の不純物濃度が異なる酸化膜に対してエッチング速度の違いが小さく、しかも、実用的なエッチング速度を有する微細加工表面処理剤を提供することを目的とする。【解決手段】 フッ酸を0.1〜8重量%と、フッ化アンモニウムを40重量%より多く、47重量%以下とを、含有することを特徴とする。なお、界面活性剤を0.001〜1重量%含むのが好ましい。
請求項(抜粋):
フッ酸を0.1〜8重量%と、フッ化アンモニウムを40重量%より多く、47重量%以下とを、含有することを特徴とする微細加工表面処理剤。
IPC (2件):
H01L 21/308 ,  C23F 1/24
FI (2件):
H01L 21/308 E ,  C23F 1/24
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開昭61-266581

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