特許

J-GLOBAL ID：200903055740924693

チタニウムフタロシアニン化合物の製造法

発明者： 原田 寛
出願人/特許権者： 大日本インキ化学工業株式会社
代理人 (1件)： 高橋 勝利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-113371
公開番号（公開出願番号）：特開2001-294588
出願日： 2000年04月14日
公開日（公表日）： 2001年10月23日
要約：

【要約】【課題】 アシッドペースト法等の煩雑な処理を経ることなく、優れた光導電性を有するチタニウムフタロシアニン化合物を容易に製造できる方法を提供する。【解決手段】 チタニウムフタロシアニン化合物を、下記構造式〔1〕で表される1,3-ジオール化合物との接触処理して得られる第二のチタニウムフタロシアニン化合物に、機械的力を与えて第三のチタニウムフタロシアニン化合物を得るチタニウムフタロシアニン化合物の製造法。【化1】(構造式〔1〕において、R1〜R6は水素原子または炭素数1から4のアルキル基を表す。)

請求項（抜粋）：

第一のチタニウムフタロシアニン化合物を、下記構造式〔1〕【化1】(構造式〔1〕において、R1〜R6は水素原子または炭素数1から4のアルキル基を表す。)で表される1,3-ジオール化合物との接触処理して得られる第二のチタニウムフタロシアニン化合物を得る工程;第二のチタニウムフタロシアニン化合物に機械的力を与えて第三のチタニウムフタロシアニン化合物を得る工程からなることを特徴とするチタニウムフタロシアニン化合物の製造法。

IPC (5件)：

C07D487/22 ,  C09B 47/08 ,  C09B 67/12 ,  C09B 67/50 ,  G03G 5/06 371

FI (5件)：

C07D487/22 ,  C09B 47/08 ,  C09B 67/12 ,  C09B 67/50 Z ,  G03G 5/06 371

Fターム (5件)：

2H068AA19 ,  2H068AA21 ,  2H068BA39 ,  2H068EA04 ,  4C050PA14